什么叫蝕刻，通常所指的是光化學蝕刻，指通過制版曝光、顯影后，將要蝕刻區(qū)域的保護膜去除，在蝕刻時使金屬接觸化學溶液，使用兩個陽性圖形通過從兩面的化學研磨達到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果，化學蝕刻是很有針對性的，是專指受控腐蝕，是金屬通過化學方法進行一種可以控制的加工方法。蝕刻分干蝕刻和濕蝕刻。干蝕刻技術又分為反應離子蝕刻（RIE）、濺射蝕刻和氣相蝕刻。
蝕刻、沖壓工藝特點的相互比較中，蝕刻的優(yōu)勢在于樣品制作成本低、幾乎所有的金屬都在蝕刻范圍內、金屬硬度上沒有限制、無刮花、無毛刺、設計上快速，簡單，效率高、制程耗時48小時、材料厚度對公差的影響±10%、產品包裝，轉移極其方便。沖壓上制造成本高，盡管所有金屬都能進行，但是在硬度太大、太小，容易碎的金屬都不可用、切割的邊緣上有刮痕、局部有毛刺、放在設計過程中如果改變工藝上非常耗時，成本高、制程耗時至少幾周、產品的包裝和轉移上比較困難。
蝕刻涉及十道工藝流程：
1、工程制圖。卓力達蝕刻工藝主要針對來圖定制，能夠對各種不同的材質進行蝕刻加工，厚度從0.03MM-2.0MM；公差最小可控制在0.0075mm，最佳的工程制圖主要是CAD工程圖。
2、原材料準備。卓力達蝕刻工藝主要涉及的材料有不銹鋼（201、202、301、304、316及400）、銅、鋁合金、鈦合金材質，其中涉及比較多的是不銹鋼材質（201、202、301、304、316及400）。
3、前處理。通過對材質表面的油污、灰塵、污垢及氧化膜噴油進行清除。清洗工藝是保障后續(xù)薄膜或絲印油墨對金屬表面有良好附著力的關鍵。
4、壓合（貼膜）。按要求雙面涂布感光膠，在應用感光層時，產品圖形所需的蝕刻處理時間可以考慮更厚或者更薄的膠層，覆蓋性能好，金屬蝕刻產生的圖案清晰度更高。
5、曝光。通過光掩膜紫外線曝光轉移成像。
6、顯影。曝光后對圖案進行固化，暴露出腐蝕部分，并清除產品不需要的感光膠層。
7、干燥。清除感光膠使金屬表面清潔，無黏連、雜質等。
8、蝕刻。通過蝕刻液對金屬進行腐蝕，其過程涉及溶液的濃度、溫度、壓力、速度等參數。
9、剝離（脫落作業(yè)）。蝕刻后殘留的感光膠層采用酸堿中和法進行膨化，利用清水和超聲波清洗多余的感光膠層。
10、檢查包裝、出庫。標準化的包裝，對每個產品放入相應的包裝箱中，登記相應的明細。
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